美光押注ASML新EUV 光刻设备，紧随三星电子和 SK 海力士

发布时间：2021-11-14 16:21:23 所属栏目：产品来源：互联网

导读：美光日前宣布， 2021 财年（2020 年 9 月至 2021 年 8 月）资本支出将超过 95 亿美元，这比早些时候提出的90 亿美元目标增加了 5 亿美元。据悉，增加部分主要是美光向ASML采购极紫外（EUV）光刻机的预付款。据BusinessKorea报道，美光计划在今年年底安装 A

美光日前宣布， 2021 财年（2020 年 9 月至 2021 年 8 月）资本支出将超过 95 亿美元，这比早些时候提出的90 亿美元目标增加了 5 亿美元。据悉，增加部分主要是美光向ASML采购极紫外（EUV）光刻机的预付款。

据BusinessKorea报道，美光计划在今年年底安装 ASML新一代 EUV 光刻机 3600D。在将新设备正式投入量产之前，该公司预计会先在量产线上进行试验。

根据ASML的官方信息，3400C 是其最新一代光刻设备，支持 7 和 5 纳米节点的 EUV 量产。目前3600D具体信息还未出现在官方网页上。